在金属清洗过程中，清洗水的水质极为重要。所需达到的清洁度取决于要清洗的产品用于何种用途、出于何种目的使用。从万向接头的发展前景来看，未来会一直带来积极的影响。


在电子设备、光学零件、半导体等需要精密清洗的领域，清洗水中即使存在微量杂质也会影响产品精度和成品率，因此不管漂浮物或溶解物具体是什么，都需要尽可能提高水的纯度。这被称为超纯水。


作为水质示例之一，包括电阻率为18MΩ·、微粒（02μ以上）为20个以下、活菌为02个以下等。


超纯水制造装置的示例之一，如【图1】所示。








首先，过滤掉作为原水的市政供水和井水中的大颗粒物，然后泵入反渗透装置，在那里除了去除离子类以减轻离子交换塔的负荷外，还可去除其他有机物等溶解成分。接着，用脱气装置除去二氧化碳气体。比较终在作为混床式纯水装置的离子交换塔中将电阻值升高至标准值。这里得到的纯水经过一级纯水箱、紫外线杀菌装置、去除微量残留粒子的抛光机（离子交换树脂塔）、去除微米以下微细颗粒的超滤过滤后，被提供给使用点（使用场所）。


这样产生的超纯水保存在空气环境中时，除了会溶解空气中的二氧化碳和氧气外，还会滋生各种真菌，所以原则上应尽可能在线使用，不应储存使用，但是在初级纯水储罐等出于工程所需而法避免的情况下，除了用紫外线杀菌灯照杀菌外，还要充入氮气阻隔空气。